0.5t/h纯水机工艺流程原理图及反渗透设备特点简介
0.5t/h纯水机工艺流程是怎样的呢?即使水量很小,0.5t/h纯水机的工艺流程却并不简单,单级反渗透设备是基础的纯水配置,当行业对于水质电阻率有要求的时候,就需要加入edi连续电解除盐技术,甚至抛光混床工艺。比如电子芯片生产制造的过程中,需要用到超纯水机,其工艺流程如下:
原水箱——增压泵——多介质过滤器——活性炭过滤器——阻垢加药装置——精密过滤器——高压泵——一级反渗透——高压泵——二级反渗透——edi装置——抛光混床——出水
可以看得出来,电子芯片生产制造的过程当中,用到了少见的抛光混床工艺,这是为了提升水质电阻率达18兆欧,如果不用抛光混床工艺的话,水质电阻率只能达15兆欧。18兆欧的超纯水在生产和清洗高精密度的芯片时,因为水中没有导电介质,所以不会影响芯片的性能,也不会对芯片产生划痕。
此外,Edi装置对进水是有要求的,如果水质太差,是不可以直接进入edi装置的。具体可参考的edi装置进水条件包括电导率、压力、硬度、温度、有机物、余氯、铁锰含量、二氧化碳和ph值等,而为了满足这些条件,反渗透设备起到了很大的作用。
那么反渗透设备有哪些特点呢?反渗透设备的功能强大,可以去除水中大部分的胶体、细菌、微生物、有机物和溶解性固体等杂质,同时占地面积小、除盐率高、连续运行、出水稳定。
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